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    | 赋能电子制造:刻蚀工艺依赖于特种电子气体 | 
   
  
    | 气体一直是电子行业发展的主要推动者。选择性气相刻蚀能够去除特定形状中单一材料的一部分,这是赋能电子制造的工艺之一。在本文中,我们将介绍如何使用简单的气体分子... | 
   
                
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    | 自主32层3D NAND即将量产 | 
   
  
    | 武汉光谷企业主导和参与制定的国际标准有25项、国家标准373项、行业标准456项。近年来,光谷企业专利申请量年均增幅保持25%以上,形成光电子信息、生物医药... | 
   
                
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    | 中国企业自主研发的内存芯片亮相美国 | 
   
  
    | 清华紫光的子公司长江存储(YMTC)从8月7日(当地时间)出席美国《美国的快闪记忆体高峰会(Flash Memory Summit)》,公开32层、64层3D NAND。 | 
   
                       
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    | 如何发展中国宽禁带功率半导体产业? | 
   
  
    | 宽禁带功率半导体的研发与应用日益受到重视,其中碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)以高效的光电转化能力、优良的高频功率特性、高温性能稳定和低能量损耗等优势,成为支撑... | 
   
                    
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